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Hitachi

日立化成中国

感光性干膜"Photec"

激光直描成像用SL系列

图片:感光性干膜"Photec"-激光直描成像用SL系列

SL系列适合UV气体激光、UV固体激光等激光直描成像(直接描绘),是一款具备高感光度・高解析度特性及优秀盖孔性的感光性干膜。

特点

  • 具备8~16 mJ/cm2(推荐曝光量)高感光度外,还具备良好的附着力・解析度。
  • 可用于355nm的直描成像曝光系统,曝光后1分钟内便产生目视可见的良好的图像对比。

感光特性

项目 单位 SL-1329 SL-1333 SL-1338
用途 盖孔•蚀刻 盖孔•电镀
膜厚 μm 29 33 38
曝光量(ST=17/41) mJ/cm2 11 12 12
附着力(ST=17/41) x/400μm 23 25 28
解析度(ST=17/41 400/xμm 23 23 25

Paragon-9000m

保护膜形状(SL-1329)

图片:保护膜形状(SL-1329)
L/S=50/50μm

SL-1338的图像对比性能

图片:SL-1338的图像对比性能
SL-1338SL-1138
* 曝光1分钟后的外观