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Hitachi

日立化成中国

感光性干膜"Photec"

激光直描成像用RD/DL系列

图片：感光性干膜"Photec"-激光直描成像用RD/DL系列

RD/DL系列适合激光直描成像（直接绘制）方式，依靠高感光度・高解析度的特性，具备在曝光后1分钟内目视可见高图像对比的性能，是极富魅力的感光性干膜。

特点

RD系列

  • 高感光度15-29mJ/cm2(RD-1000系列，使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-9000ｍ时)、可实现高解析度L/S=8/8μm(RD-1225，使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-Ultra/ HITACHI VIA MECHANICS （日立维亚机械）DE-6UH)。
  • 具有可用于355nm、405nm直描成像曝光系统的多用途性、并兼备曝光后1分钟内便目视可见的高图像对比性。
感光特性
项目 单位 RD-1010 RD-1015 RD-1020 RD-1125 RD-1225
膜厚 μm 10 15 20 25 25
曝光机
波长		 nm 355*1 405*2 355*1 405*2 355*1 405*2 355*1 405*2 355*1 405*2
曝光量 mJ/cm2 15～27 23～46 15～28 24～47 16～29 25～49 55～110 50～100 70～135 60～120
推荐ST
固化格数		 x/41 11～17 20～26 12～18 20～26 12～18
解析度*3 x/xμm 12 15 18 10 9*5 8 8
附着力*3 x/3xμm 12 15 18 12 10*5 8 8
图像对比
性能*4		 — 7 8 9 15 15
*1
RD-1000：使用Orbotech（奥宝电子） Paragon-9000m。
RD-1125/1225：使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-Ultra
*2
RD-1000：使用HITACHI VIA MECHANICS （日立维亚机械）DE-1AH。
RD-1125/1225：使用HITACHI VIA MECHANICS（日立维亚机械）DE-6UH。
*3
RD-1000：ST=14/41，RD-1125/1225：355nm；ST=23/41, 405nm；ST=15/41
最少显影时间的2倍。
*4
RD-1000：ST=14/41，RD-1125/1225：355nm；ST=23/41, 405nm；ST=15/41，曝光后1分钟的值。
*5
像素修正值：-4.65μm (使用HITACHI VIA MECHANICS（日立维亚机械）DE-1AH)

保护膜形状(RD-1125ST=14/41)

图片：L/S=12/12μm；355nm
L/S=12/12μm；355nm
（使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-9000m）

图片：L/S=12/12μm；405nm
L/S=12/12μm；405nm
（使用HITACHI VIA MECHANICS（日立维亚机械）DE-1AH）

保护膜形状(RD-1125ST=14/41)

图片：L/S=12.5/12.5μm；355nm
L/S=12.5/12.5μm；355nm
（使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-9000m）

图片：L/S=14/14μm；405nm
L/S=14/14μm；405nm
（使用HITACHI VIA MECHANICS （日立维亚机械） DE-1AH）

RD-1125的图像对比性能

图片：RD-1125的图像对比性能
RD-1125（35ｍJ/cm2）
（使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-9000m）曝光1分钟后的外观

特点

DL系列

  • 除11-27 mJ/cm2（推荐曝光量）的高感光度外，兼具良好的附着力・解析度。
  • 可用于405nm的直描成像曝光系统，曝光后1分钟内便产生目视可见的良好图像对比。
感光特性
项目 单位 DL-1229 DL-1232 DL-1238
用途 — 盖孔•蚀刻
膜厚 μm 29 32 38
曝光量(ST=14/41) mJ/cm2 16 17 19
附着力(ST=14/41) x/400μｍ 30 32 35
解析度(ST=14/41） 400/xμｍ 30 30 35

保护膜形状(DL-1229)

图片：保护膜形状(DL-1229)
L/S=50/50μｍ

DL-1229的图像对比性能

图片：DL-1229的图像对比性能
DL-1229(ST=14/41)
（使用Orbotech（奥宝电子）Paragon-9000m）曝光1分钟后的外观