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感光性干膜"Photec"

激光直描成像用RD系列

感光性干膜Photec激光直描成像用RD系列

RD系列适合激光直描成像(直接绘制)方式,依靠高感光度・高解析度的特性,且具有高图像对比性,可有效提升生产效率。

特点

RD1200系列

  • 代表性干膜型号:RD-1215/RD-1219/RD-1225。
  • 适用于DLP/UV-LDI曝光系统,具有高图像对比性。
  • 具有高解析度,高密着性的特性。
    L/S=8/8μm(RD-1225,使用Orbotech(奥宝电子)Paragon-Ultra/ HITACHI VIA MECHANICS(日立维亚机械)DE-6UH)
  • 显影后干膜侧壁陡直,可形成优良的线路。
曝光
DE-1UH(405nm)
显影时间(sec)
18
显影后的干膜侧壁

L/S=6/6um
电镀后的线路侧壁

L/S=6/6um

RD-1215显影后和电镀后的线路侧壁(测试数据中的一例)

RD2000系列

  • 代表性干膜型号:RD-2010/RD-2015。
  • 高感光特性,适用于DLP/UV-LDI曝光系统,高图像对比性。
  • 优良的解析度和显影后侧壁,适用于更精细的线路。
  • 具有良好的对小孔的盖孔特性,优于已有的其它型号。
干膜型号 RD-2010 RD-2015
感光层厚度um 10 15
最短显影时间(sec) 7 9
感光ST 14 ~17 14 ~17
曝光波长 355*1 405*2 355
405
曝光能量ST=14/41(mj/cm2) 30 43 31 45
密着性um   12.5 12 15 14
解析度um   12.5 12 15 15
去膜时间sec 14 25
破孔率(%)ST=14/41 MD×5 Ф1.0mm 0.0 0.0 0.0 0
Ф2.0mm 15.8 9.5 0.0 0
Ф3.0mm 52.3 47.0 47.7 39.2

* 1. Panagon-9000m(orbotech Ltd.); * 2. DE-1AH (Hitachi Via Mechanics,Ltd.)
* 显影条件:温度30℃,1.0wt% Na2CO3
* 去膜条件:温度50℃,2.0wt% NaOH

干膜
RD-2015
显影时间(sec)
18

panagon-9000m(ST=14/41)


L/S=15/15um

DE-1AH(ST=14/41)


L/S=14/14um

RD-2015干膜显影后的侧壁(测试数据的一例)