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Hitachi

日立化成中国

感光性干膜"Photec"

印制电路板线路形成用PH系列

图片:感光性干膜"Photec"-印制电路板线路形成用PH系列

PH系列是面向高密度电路板的线路形成而开发的外层盖孔・图形电镀工艺以及内层蚀刻工艺的碱性显影型感光性干膜。和传统的产品相比,具有良好的解析度、盖孔性能,有助于提高高密度电路板形成时的良品率。

特点

  • 显影时间短,可有效提高产能。
  • 良好的解析度,可有效形成高密度线路。
  • 良好的盖孔性能,可有效提高良品率。
感光特性
项目 单位 PH-2325 PH-2329 PH-2337 以往产品
膜厚 μm 25 29 37 38
感度*1 mJ/cm2 50 52 55 55
最短显影时间 sec. 15 17 23 27
附着力*1*2(L/S=x/400) μm 20 22 27 27
解析度*1*2(L/S=400/x) μm 25 27 30 40
盖孔强度*1*3 6.5 5.7
盖孔延展性*1*3 mm 1.1 0.9

*1:PH-2340(ST=20/41) 以往产品(ST=23/41):采用日立41格曝光尺,推荐硬化格数的中心值的曝光能量,平行光曝光机(株)ORC制作所制(EXM-1201)
*2:1wt%Na2CO3, 30℃,最短显影时间×2,日立测试图形
*3:测定盖孔破孔时的强度・延展性(参照下图)

图片:盖孔强度试验方法

【盖孔强度试验方法】

图片:盖孔强度试验方法